Um das Warten auf die 14. ThGOT und das 6. Optik-Kolloquium zu verkürzen möchten wir Ihnen in den kommenden Wochen einen kleinen Vorgeschmack auf unsere zahlreichen spannenden Fachvorträge geben.
Low Temperature Photochemical Preparation of Iron(III) Oxide Thin Films
Patrick C. With / Leibniz Institute of Surface Engineering (IOM) – Chemical Department, Leipzig
Thin-film iron oxides possess semiconducting properties and high chemical stability which were utilized for a variety of applications in gas sensing, as catalysts, as optical coating, for solar water splitting, as well as in electrical and magnetic devices. Common approaches to deposit Iron oxide thin films include chemical or physical gas phase deposition methods, reactive sputtering and sol-gel techniques. Typically, annealing at temperatures above 350 °C is needed to create ‘clean’ iron oxide thin films, due to the high pyrolysis temperature of organic compounds, as well as the high activation energy for dehydroxylation reactions in sol-gel processes.
Photochemically assisted processes are able to overcome temperature related issues since they can be run close to ambient conditions, as shown in our previous works on titanium and aluminum oxides [1,2]. In addition, roll-to-roll applicability of the process was demonstrated for SiOx thin films [3]. This study highlights a low-temperature photochemical synthesis route for the prepa-ration of amorphous iron(III) oxide thin films. For this, iron(III) tert-butoxide [Fe(OtBu)3]2 precursor thin films were converted using energy-rich vacuum UV light (VUV) under an oxidative atmosphere. Besides thin film characterization, we intend to give a first insight into reaction pathways investigated by DFT calculations.
Dieser Vortrag wird am 14.03.2019 um 13:45 Uhr im 6. Kolloquium Dünne Schichten in der Optik
Flächige Inline-Überwachung von Oberflächen
Dr. Ferdinant Bammer / TU Wien – Institut für Fertigungs- und Hochleistungslasertechnik, Wien (Österreich)
Die Inline-Kontrolle der Güte eines flächigen Bearbeitungsprozess, beispielsweise die Dicke einer Beschichtung, wird in vielen Fällen nur durch punktförmige bewegte Sensoren ausgeführt, sodass keine 100% Kontrolle möglich ist. Wir stellen ein flächiges Messystem vor, basierend auf Ellipsometrie, das insbesonders bei R2R-Anwendungen eine vollflächige Überwachung in Echtzeit ermöglicht.
Dabei wird der Polarisationszustand des von der zu untersuchenden Oberfläche reflektierten Lichtes entlang einer bis zu 250mm langen Linie ausgewertet und daraus mittels Modellierung der gewünschte Messwert errechnet.
Das Verfahren arbeitet mono-chromatisch und ist im NIR und im IR realisiert. Es benutzt keine bewegten Komponenten und ist daher robust und einfach.
Dieser Vortrag wird am 14.03.2019 um 15:45 Uhr im 6. Kolloquium Dünne Schichten in der Optik