Um das Warten auf die 14. ThGOT und das 6. Optik-Kolloquium zu verkürzen möchten wir Ihnen in den kommenden Wochen einen kleinen Vorgeschmack auf unsere zahlreichen spannenden Fachvorträge geben.
Multifunktionaler Plasma- und Beschichtungssensor zur Charakterisierung von Plasmaquellen für Beschichtungs- und Ätzprozesse
Klaus Ellmer, Optotransmitter-UmweltschutzTechnologie e.V., Berlin
Ein multifunktionaler Plasma- und Beschichtungssensor, basierend auf einem konventionellen Schwingquarz zur Schichtdickenmessung, wird vorgestellt [1]. Er kann benutzt werden, um quasi-simultan die Abscheide-/Ätzrate, den Energiefluss und die Plasmaparameter (Plas-madiche, Elektronentemperatur) zu messen.
Durch Kombination der verschiedenen Messgrößen können die Parameter Ionen-/Neutralteilchen-Verhältnis und mittlere Energie pro abgeschiedenem Schichtteilchen berechnet werden, Größen, die fundamental sind für die Charakterisierung von Plasma- und Ätzprozessen.
Durch Bewegung des Sensors oder der Plasmaquelle relativ zueinander können radiale oder axiale Profile der Plasmaquelle mit einer Ort-sauflösung von etwa 8 mm (Öffnung des Schwingquarzes) erfasst werden.
Der Sensor wird demonstriert für 2 verschiedene Magnetronentladungen und für die Vermeesung einer HF-Ionenquelle.
Dieser neuartige Sensor ist ein kompaktes und einfaches Werkzeug zur Charakteri-sierung von verschiedensten Plasmaquellen.
Dieser Vortrag wird am 12.03.2019 um 15:50 Uhr in SESSION B: NEUE TRENDS IN DER OBERFLÄCHENTECHNIK präsentiert.
Comprehensive Optical Spectroscopy Study of TiO2 Layers
Teresa I. Madeira, Technische Universität Chemnitz – Semiconductor Physics, Chemnitz
Titanium dioxide (TiO2) with a band gap of ca. 3.2eV has many potential applications, for instance in photovoltaics, photocatalysis, and gas sensing. Here we present the investigation of TiO2 layers which were prepared by plasma and flame chemical vapour deposition as well as by DC sputtering using the combination of Raman and infrared spectroscopies with spectroscopic ellipsometry.
While the vibrational spectroscopies are very sensitive to the phases (anatase and rutile) as well as the crystallinity, spectroscopic ellipsometry allows the optical constants, the layer thickness, surface roughness, and porosity of the deposited filmes to be determined. From the breadth of results it is possible to define the optimal deposition conditions and technique to achieve the desired TiO2 phase and film thickness for a specific technological application.
Dieser Vortrag wird am 12.03.2019 um 16:10 Uhr in SESSION B: NEUE TRENDS IN DER OBERFLÄCHENTECHNIK präsentiert.