Um das Warten auf die 14. ThGOT und das 6. Optik-Kolloquium zu verkürzen möchten wir Ihnen in den kommenden Wochen einen kleinen Vorgeschmack auf unsere zahlreichen spannenden Fachvorträge geben.
Development of a parallelizable QCM-D biosensor array w. flexible sample routing
Siegfried Hohmann / Karlsruher Institut für Technologie (KIT) – Institut für Funktionelle Grenzflächen (IFG), Eggenstein-Leopoldshafen
Quartz crystal microbalances with dissipation monitoring (QCM-Ds) allow the monitoring of the adsorption process of mass from a liquid to their surface. The chip surface can be modified in a wide range. This allows to study unspecific as well as specific adsorption after the immobilization of capture molecules. The adsorbed mass can be analysed regarding its contents after the measurement of the adsorption process. To ensure the identification of the adsorbed substances the results of several measurements can be combined. A high content QCM-D biosensor array allowing up to ten measurements in parallel was developed. The samples can be routed inside the array distributing one sample to several chips with different surfaces. The fluidic parts were prototyped using 3D printing. The sample routing function using printed valves could be demonstrated. A temperature controller was developed, implemented and shown to be able to keep the temperature constant over long time with high accuracy.
Dieser Vortrag wird am 13.03.2019 um 14:10 Uhr in SESSION C: NEUE MESSVERFAHREN IN DER OBERFLÄCHENTECHNIK präsentiert.
Plasmabasierte Prozessregelung bei der Deposition von Interferenzoptik
Dr. Rüdiger Foest / Leibniz-Institut für Plasmaforschung und Technologie, Greifswald
Die plasma-ionengestützte Abscheidung (PIAD) ist eines der üblichen Herstellungsverfahren für Interferenzoptiken. Mittels dielektrischer Schichtsysteme können anspruchsvolle Spezifikationen (hochreflektierende Spiegel, Entspiegelung, Filter) in vielen Anwendungsgebieten wie Ophthalmik, Laseroptik (Materialbearbeitung, Messtechnik, Medizintechnik, Kommunikationstechnik) realisiert werden. Im PIAD-Prozess werden die Schichtmaterialien typischerweise mittels Elektronenstrahlverdampfung auf die Substrate aufgebracht, während das Schichtwachstum durch eine zusätzliche Plasmastrahlquelle unterstützt wird.
In diesem Beitrag werden die Methoden zur prozesstauglichen Diagnostik der Beschichtungsprozesse vorgestellt. Mittels optischer Emissionsspektroskopie und aktiver Plasmaresonanzspektroskopie lassen sich Variationen des Plasmazustands erfassen, können Driften kompensiert und somit im Vergleich zu konventionellen Konzepten eine neue Qualität der Prozessführung erreicht werden.
Dieser Vortrag wird am 13.03.2019 um 15:00 Uhr in SESSION C: NEUE MESSVERFAHREN IN DER OBERFLÄCHENTECHNIK präsentiert.